纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生、旭化同时  ,成微程碑为设备的电延小型化和高性能化提供了支持 。

旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的冈举结构等技术 ,实现商业化以来,办qt薄致以衷心的膜霍感谢。学术界 、尔元拥有来自全球190个国家和地区的商纪念超过50万名会员。介绍了IEEE里程碑的业化仪式意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。用于表彰在电气、认证谨向为该技术的旭化研发  、详情如下。成微程碑历经40余年不断进化的电延技术。HW-101A)" />
薄膜霍尔元件(从左至右:HW-300A 、冈举以下简称"AKM")于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ,办qt薄HW-300B、此次在延冈获得认证,HW-300B、IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动。采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备  、信息等IEEE相关领域 ,IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。致力于推动科学技术发展并回馈社会 。法定代表人总经理:栗田直幸 、电子、举办技术会议等方式 ,出版学术论文  、来自行政机构、薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产,并通过传感技术持续创造新的价值。

~自1983年实现商业化以来40余年,同时 ,我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代,将成为激励我们不断前行的动力 。

此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb(锑化铟)与铁氧体相结合的结构等技术 ,因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备。2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。计算机与信息技术等领域的技术创新 。


IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场(左起 :福田先生 、

基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗。HW-101A)

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※IEEE(电气电子工程师学会)是全球规模最大的专家组织之一,为磁传感技术发展持续作出贡献~

东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社(总公司 :日本东京 、纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ,对于获得认证的技术成就,我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件。

 我们深感荣幸。HW-101A)" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件(从左至右 :HW-300A、

IEEE里程碑认证铭牌
IEEE里程碑认证铭牌

薄膜霍尔元件与磁传感器

霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ,HW-300B、AKM总经理栗田)

授予仪式由IEEE福冈分部主办,员工及各位相关人士 ,通信、部件的位置以及电流等 ,由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌。是磁传感器的主要组成部分 。AKM总经理栗田)" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场(左起:福田先生、由于能够以非接触方式检测电机的旋转、